<del id="zhe4f"></del>

<nav id="zhe4f"></nav>

<form id="zhe4f"><source id="zhe4f"><dl id="zhe4f"></dl></source></form>
<wbr id="zhe4f"><pre id="zhe4f"><dl id="zhe4f"></dl></pre></wbr>
<strike id="zhe4f"><pre id="zhe4f"></pre></strike>
<em id="zhe4f"></em>

      <sub id="zhe4f"></sub><form id="zhe4f"><pre id="zhe4f"><dl id="zhe4f"></dl></pre></form><big id="zhe4f"></big><sub id="zhe4f"><address id="zhe4f"><div id="zhe4f"></div></address></sub>

    1. <form id="zhe4f"></form>
        <strike id="zhe4f"><p id="zhe4f"><s id="zhe4f"></s></p></strike>

         
        024-89773888
        024-89773888
        熱門搜索:           關鍵詞1              關鍵詞2              關鍵詞3
        產品中心
        PRODUCT  CENTER

        防指印AF濺射鍍膜機
            發布時間: 2021-02-17 14:17    
        防指印AF濺射鍍膜機

           AF高透防指印涂層適用于手機、平板電腦等觸控產品,還適用于在電器、衛浴等塑膠和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF涂層,提高光滑度、易清潔性。

        PVD-AF1600系列多功能鍍膜機除配備有高透AF防指紋蒸發濺射系統、提高工件涂層附著力的中頻離子清洗系統外,還配置了陰極電弧源及中頻磁控濺射靶,以滿足用戶多種涂層的鍍制需求。


        技術參數:

        真空室內尺寸:φ1600x1350

        極限真空度:5×10-4Pa

        空恢時間:大氣抽到6.7×10-3Pa≤15min

        壓升率:≤0.5Pa/h

        占地空間:L4.6×W3.9×H2.5m3

        裝機容量:約380Kw


        主要配置:

        AF防指紋蒸發系統:鉬舟12~16個,可控硅控制

        中頻離子清洗:1套

        弧源:12套(φ95小弧源)

        中頻磁控陰極:6對

        使用溫度:400℃

        工件架:行星公自轉結構

        真空室冷卻方式:水套冷卻

        控制方式:PLC/觸摸屏控制

        進氣控制:3路

        脈沖偏壓:40KW

        弧電源:160A

        中頻電源:30KW



        真空系統配置:

        深冷系統:1套

        高真空泵:F-3600分子泵    3臺

        預抽泵: 2XT-70旋片泵    2臺

        RTO-300羅茨泵    2臺

        維持泵:2XT-70旋片泵    1臺
        <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链>