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        PVD-DLC鍍膜機
            發布時間: 2021-02-17 13:56    
        PVD-DLC鍍膜機  

          該設備具有操作方便,裝載量大,工作周期短,生產率高等優點,適合工業化批量生產。






          技術參數:

             真空室尺寸:φ1000×1000

             極限真空度:6.7×10-5Pa

             空恢時間:大氣抽到6.7×10-3Pa≤40min

             壓升率:≤0.5Pa/h

             占地空間:L4×W3.1×H2.6m3

             裝機容量:170KW


             主要配置:

             陰極濺射源:平面陰極

             離子源:陽極層離子源

             使用溫度:100~200℃

             工件架:(1)可移出式復合轉架,齒輪傳動,配備裝卸車
                          (2)固定轉架


             真空室冷卻方式:水套、水槽冷卻

             控制方式:Q系列PLC,15寸觸摸手動-自動控制系統。

             進氣控制:4路(混氣后分4路均勻供氣)

             脈沖偏壓:3000V,20KW

             主要膜層:DLC

             膜層特點:低摩擦系數,耐蝕性好,適用于Cu、Al、玻璃纖維等材料的加工

             真空系統配置:

             高真空泵:FF-3500分子泵

             預抽泵: RVP-25直聯泵 
                         RTO-150羅茨泵  

             維持泵: RVP-18直聯泵  
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